小型高周波誘導加熱装置
小型ながらハイパワーで時間をかけず、2,000℃を超える超高温加熱を手軽に実現可能な装置です。
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- メーカー
- SKメディカル電子
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- 型式
- MU-αシリーズ
特徴
- 急速加熱が可能。
- 加熱効率が非常に高い。
- 非接触なので断線、短絡などが無くまた、装置自体には電熱線のような高温箇所が無く安全です。
- 非接触加熱であるために真空中、ガス雰囲気中での加熱が容易。
- 局部集中加熱が容易。
- 電力制御によるパワーコントロールが容易（温度制御）
- 熱電対、放射温度計による温度フィードバックにより高精度の温調が可能。
- 消費電力、冷却水の消費量が非常に少なくランニングコストが削減できる。
- 小型、軽量で省スペース化が可能（生産設備の小型化）
- 石油、ガスなどの燃焼時の排ガス・じんあいの発生が無く被加熱物や環境を極めて清潔に保てます。
- 石油、ガス、電気炉、真空管方式の誘導加熱のようなアイドリングが不要で、直ぐに加熱が出来ます。
- カーボンルツボ等の使用により、無機物（ガラス、セラミックetc）も間接加熱が可能。
- 超高温域の加熱が可能（２０００℃以上）。
仕様
- MU-Ⅲ 高周波出力：最大（常用）4kW（2kW)
- MU-IV 高周波出力：最大（常用）6kW（6kW)
その他
【原 理】
電磁誘導作用を利用し、加熱コイルに高周波電流を流すことで磁束を発生させます。
発生した磁束は、加熱コイル内の被加熱物を通過します、この磁束の変化を受けて被加熱物内に高密度のうず電流が流れます。
流れた電流と固有抵抗に応じ、ジュール熱が発生し被加熱物だけが加熱されます。
